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產品詳情
簡單介紹:
日本funatech氧化裝置
日本funatech氧化裝置
詳情介紹:
產品特點:
在半導體工業(yè)中使用的水的純度越來越高,值請求(TOC)的有機物質的濃度的超純水,也變得更加嚴格。它是紫外線氧化設備所產生的真空紫外線的照射(185nm的)具有非常強的·OH自由基氧化,是使用有機物質的氧化分解的氧化能力。FOV系列產品是一種有效地從高輸出低壓汞燈產生的真空紫外光照射,氧化分解有機物在水中的設備。這是一個很好的地方,以減少TOC ppb的順序。
在半導體工業(yè)中使用的水的純度越來越高,值請求(TOC)的有機物質的濃度的超純水,也變得更加嚴格。它是紫外線氧化設備所產生的真空紫外線的照射(185nm的)具有非常強的·OH自由基氧化,是使用有機物質的氧化分解的氧化能力。FOV系列產品是一種有效地從高輸出低壓汞燈產生的真空紫外光照射,氧化分解有機物在水中的設備。這是一個很好的地方,以減少TOC ppb的順序。